レーザーアブレーション

レーザーアブレーションとは固体や液体の表面にレーザー光を照射したときに、レーザー光の吸収と熱化過程あるいはその後のプラズマ発生とともに表面の構成物質が爆発的に放出される現象のことです。
レーザーアブレーションにより瞬時的に溶融、蒸発しイオン、原子、ラジカル、分子、クラスタ、個体片などが放出されますがその過程は個体によって異なります。使用するレーザーの波長、パワー、パルス幅、繰返し周波数といったレーザー側のスペックや光吸収度、熱伝導度、電気伝導度といった材料側の性質、あるいは単純に金属、樹脂、セラミックといった材質によっても異なる現象が発生します。

レーザーアブレーションを利用したアプリケーション

・微細加工（穴あけ、切断）
・薄膜作製
・ナノ粒子体の創成
・元素分析

レーザーアブレーションにおすすめのレーザー

・Photonics Industries 社製 高パルスエネルギーレーザー「DPシリーズ」

DPシリーズは空冷、<8nsの短パルス幅、最大パルスエネルギー20mJ＠1053nmを発振するコンパクト、高パルスエネルギー・ナノ秒DPSSレーザーシステムです。1053nm、527nm、351nm、263nm発振自動切換モデルや、繰返し周波数100Hzモデル、1ｍJ＠2kHzモデルなど様々なラインナップがあります。

・Photonics Industries 社製 高パルスエネルギーレーザー「DMシリーズ」

DMシリーズはPhotonics Industries International社レーザーの中で最も高いパルスエネルギーを発振するように設計された
ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
Nd:YAG、Nd:YLFを媒体とし、最大100ｍJ＠527nm(1kHz)モデルや最大50kHz繰返し周波数モデルまでラインナップしています。

・Photonics Industries 社製 コンパクト、ピコ秒レーザー「RXシリーズ」

RXレーザーシステムは、特許取得済みのpulse selection技術により世界中で数百台の納入実績がある
産業用ピコ秒レーザーRGシリーズから誕生した新型コンパクト・ピコ秒レーザーシステム（短パルスレーザーシステム）です。
レーザーヘッドとレーザー電源を一体型にしたオールインワン構造により、同クラスのピコ秒レーザの中では最小、最軽量な点が特長です。

さらに、ピコ秒でありながら1064nmモデルは最大4ｍJ＠1kHz、532nmモデルは最大2.5mJ＠1kHzを可能とする高パルスエネルギーピコ秒レーザーシステム「RGLXシリーズ」もございます。

・Photonics Industries 社製 コンパクト、ナノ秒レーザー「DXシリーズ」

DXレーザーシステムは共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン（特許取得済）を採用している、最大100W＠532nm、最大50W＠355nmを発振する高出力・コンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。

高出力レーザーながら、レーザーヘッドとレーザー電源を一体型にしたオールインワン設計を実現し、同クラスの出力を発振するナノ秒レーザーの中で最小クラスのサイズとなっています。
レーザーシステム構成がシンプルになり、設置面積が小さいため装置への組込みにも最適です。

空冷タイプの「DX-ACシリーズ」もご用意しております。

・Litron Lasers 社製 高パルスエネルギー、ランプ励起レーザー「TRLiシリーズ」「LPYシリーズ」「LPY10Jシリーズ」

最大10Jの高いパルスエネルギーと、高い繰返し周波数を実現したフラッシュランプ励起Nｄ：YAGレーザーシステムです。

・Litron Lasers 社製 高パルスエネルギー、ＬＤ励起レーザー「TRLi DPSS」「Nano DPSS」

Litron Lasers社には、LD励起ながらも最大360mJ/300Hzを発振するレーザーもラインナップしています。

レーザー詳細仕様のご説明、お客様のご用途/ニーズにあわせてレーザーシステムのご提案を致しますので、お電話(03-3351-0717)もしくはお問合せフォームよりお気軽にお問合せください。