最大160W 産業用ピコ秒レーザー
RXレーザーシステムは、特許取得済みのpulse selection技術により世界中で数百台の納入実績がある産業用ピコ秒レーザーRGシリーズから誕生した新型コンパクト・ピコ秒レーザーシステム(短パルスレーザーシステム)です。加工含め様々な産業用途にお使い頂いております。
レーザースクライビングとは、レーザー光を用いて非接触でスクライビングを行う加工方法です。
一般的にガラス加工に用いられるのは接触型のスクライブ法で、ガラス表面にスクライビングホイールでけがき線を形成し、それに沿って曲げる力を加えることでガラスが分断されます。しかし、工具を直接ガラス表面に押し付ける機械的なスクライブ法では、パーティクルの発生が難点です。
そこでレーザー光を用いると、加熱により非接触でスクライブを行うことができ、滑らかな分断面となるので、パーティクルの発生を抑えることができます。
(ナノ秒レーザーDX355-28を使用したシリコンへのスクライブ加工)
レーザースクライブ用途には、米国Photonics Industries社製が多く使用されております。米国Photonics Industries 社は、イントラキャビティ高調波固体レーザーの先駆者として、高出力・高調波のレーザーシステムとアプリケーションの開発に取り組むメーカーです。お客様の幅広いニーズに応えることができ、異なるさまざまな分野の用途に使用することができるレーザーシステムを製造・設計し、提供しています。
1064nm(IR)、532nm(Green)、355nm(UV)、266nm(DUV)、出力/繰返し周波数などから最適なレーザーシステムをご提案致します。
レーザー詳細仕様のご説明、お客様のご用途/ニーズにあわせてレーザーシステムや加工装置のご提案を致しますので、お電話(03-3351-0717)もしくはお問合せフォームよりお気軽にお問合せください。
最大160W 産業用ピコ秒レーザー
RXレーザーシステムは、特許取得済みのpulse selection技術により世界中で数百台の納入実績がある産業用ピコ秒レーザーRGシリーズから誕生した新型コンパクト・ピコ秒レーザーシステム(短パルスレーザーシステム)です。加工含め様々な産業用途にお使い頂いております。
最大4mJ 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー
RGLXレーザーシステムは、ピコ秒でありながら1064nmモデルは最大4mJ@1kHz、532nmモデルは最大2.5mJ@1kHzを可能とする高パルスエネルギーピコ秒レーザーシステムです。
ナノ秒完全空冷小型レーザー
DCシリーズは完全空冷、かつ共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン(特許取得済)を採用しているコンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
ナノ秒完全空冷小型レーザー
DX-ACシリーズは完全空冷、かつ共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン(特許取得済)を採用しているコンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
ナノ秒高出力レーザー
DXレーザーシステムは共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン(特許取得済)を採用している、最大80W@532nm、最大50W@355nmを発振する高出力・コンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
マルチモード高パルスエネルギーレーザー
DMシリーズはPhotonics Industries International社レーザーの中で最も高いパルスエネルギーを発振するように設計されたナノ秒DPSSレーザーシステムです。Nd:YAG、Nd:YLFを媒体とし、最大100mJ@527nm(1kHz)モデルや最大50kHz繰返し周波数モデルまでラインナップしています。
マルチモード高パルスエネルギーレーザー デュアルヘッドタイプ
DM Dual Headシリーズは、高パルスエネルギー/高出力DMレーザーシステム2台をコンバインすることで最大200mJ@527nmや最大400W@10kHzを実現したデュアルヘッドレーザーシステムです。各レーザーヘッドは独立して制御が可能なため、お客様の任意のタイミングで各レーザー光を発振制御することが可能です。