サブナノ秒レーザー
SNレーザーシステムは、高い出力/パルスエネルギーとナノ秒より短いパルス幅を実現するために開発されたサブナノ秒レーザーシステムです。パルス幅は500ps~5ns、最大160W/3mJまでモデルラインナップしています。
レーザー誘起前方転写法(Laser-Induced Forward Transfer, LIFT)は、レーザーを使用して材料をある表面から別の表面に転写する技術で、高精度な用途に役立ちます。
材料はドナー基板にコーティングされ、レシーバー基板がその材料を受け取る準備を整えます。レーザーパルスがドナー基板上の材料を加熱またはアブレーション(除去)し、加熱された材料が噴出され、レシーバー基板に向かって飛びます。材料はレシーバーに付着し、精密なパターンを作り出します。
高精度:詳細で高解像度の転写が可能。
多用途:金属、ポリマー、生体物質などさまざまな材料に対応。
廃棄物の削減:必要な部分にのみ材料を転写することで、無駄を最小限に抑えることが可能。
・サブナノ秒レーザー「SNシリーズ」
SNレーザーシステムは、高い出力/パルスエネルギーとナノ秒より短いパルス幅を実現するために開発されたサブナノ秒レーザーシステムです。パルス幅は500ps~5ns、最大160W/3mJまでモデルラインナップしています。