ナノ秒高出力レーザー
DXレーザーシステムは共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン(特許取得済)を採用している、最大80W@532nm、最大50W@355nmを発振する高出力・コンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
PCB(プリント基板)およびFPCB(フレキシブルプリント基板)加工において、
レーザーは、精密かつ高効率な加工を実現させることができます。
・ 高精度な加工: レーザーは非常に細かいパターンや小さな穴も高精度で加工できます。
これにより、基板上の細かい回路パターンや微細な接続部分も正確に形成可能です。
・ 迅速な加工: レーザーは高速で材料を加工するため、製造プロセスの全体的なスループットを向上させます。特に大量生産において、その効率性が発揮されます。
・ 多様な材料に対応: 樹脂基板、銅基板、フレキシブル基板など、さまざまな材料に対応できます。
・ 熱影響を最小化: レーザー加工は非常に局所的な加熱を行うため、基板全体に対する熱影響が少なく、緻密な加工が可能です。
・ 複雑な形状の加工: 曲線や複雑なパターンも難なく加工できるため、デザインの自由度が大きく向上します。
レーザースクライブ用途には、米国Photonics Industries社製が多く使用されております。米国Photonics Industries 社は、イントラキャビティ高調波固体レーザーの先駆者として、高出力・高調波のレーザーシステムとアプリケーションの開発に取り組むメーカーです。お客様の幅広いニーズに応えることができ、異なるさまざまな分野の用途に使用することができるレーザーシステムを製造・設計し、提供しています。
1064nm(IR)、532nm(Green)、355nm(UV)、266nm(DUV)、出力/繰返し周波数などから最適なレーザーシステムをご提案致します。
レーザー詳細仕様のご説明、お客様のご用途/ニーズにあわせてレーザーシステムや加工装置のご提案を致しますので、お電話(03-3351-0717)もしくはお問合せフォームよりお気軽にお問合せください。
ナノ秒高出力レーザー
DXレーザーシステムは共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン(特許取得済)を採用している、最大80W@532nm、最大50W@355nmを発振する高出力・コンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
最大160W 産業用ピコ秒レーザー
RXレーザーシステムは、特許取得済みのpulse selection技術により世界中で数百台の納入実績がある産業用ピコ秒レーザーRGシリーズから誕生した新型コンパクト・ピコ秒レーザーシステム(短パルスレーザーシステム)です。加工含め様々な産業用途にお使い頂いております。