PLD

PLD（Pulsed Laser Deposition） とは、薄膜を成膜するための物理蒸着法の一つで、パルスレーザーを使用して材料を基板に蒸着する技術です。

高出力のパルスレーザー光を真空チャンバーや低圧のガス環境内でターゲット材料に焦点を合わせて照射します。レーザー光がターゲット材料に吸収されると、電子の励起が生じ、これがエネルギーに変換されます。この結果、ターゲット材料が蒸発し、基板に薄膜として堆積されます。

PLDは、高い純度と均一性を持つ薄膜を生成でき、膜の厚さや組成などの特性を精密に制御することができます。

 

PLDにおすすめのレーザー

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米国Photonics Industries 社は、イントラキャビティ高調波固体レーザーの先駆者として、高出力・高調波のレーザーシステムとアプリケーションの開発に取り組むメーカーです。お客様の幅広いニーズに応えることができ、異なるさまざまな分野の用途に使用することができるレーザーシステムを製造・設計し、提供しています。

DPシリーズ　

パルスダイオード励起を採用し、完全空冷でありながら最大20ｍJ＠1053nm、パルス幅は<8nsを実現しています。
繰返し周波数2kHzで1ｍJ＠1064nm、800μJ＠532nmの高繰返しモデルがあります。

英国Litron Lasers社は高い周波数発振可能なレーザーシステム、また高パルスエネルギーレーザーシステムの製造を得意としています。ご希望のビーム特性や共振器形状のカスタマイズ等の特注対応も積極的に行っており、お客様のご要望にお応えできるメーカーです。

LPYシリーズ

 

最大2J/最大200Hzという非常に高いパルスエネルギーを発振するフラッシュランプ励起Nd:YAGレーザーシステムです。

 

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レーザー詳細仕様のご説明、お客様のご用途/ニーズにあわせてレーザーシステムのご提案を致しますので、お電話(03-3351-0717)もしくはお問合せフォームよりお気軽にお問合せください。