APPLICATION
アニーリング
アニールとは、表面を加熱後、冷却して材料表面を改変させるもので、炉やランプでの加熱や、レーザーアニールなどの方法があります。
レーザーアニーリングとはレーザーを用いてそれを行う技術です。
レーザーアニーリングでは、アモルファス（非結晶）シリコン膜にレーザーを照射し、ポリシリコンに改質（融解・結晶化すること）が行われています。
レーザーアニーリングの特徴
・炉やランプでのアニーリングと比較し、昇温及び冷却が短時間でできる
・材料や結晶状態に対して使用するレーザー波長を選ぶことで表面層だけでなく深さ方向も改質できる
レイチャーシステムズではレーザーアニーリング用光源レーザーを多く取り揃えております。
特に高出力・高繰返しのレーザーも取り扱っておりますので、絶縁ゲートバイポーラトランジスタ（IGBT）へのアニールも得意です。
アニーリングにおすすめのレーザー
高繰返し（1kHz以上）発振パルスレーザー
・527nm最大100mJ＠1kHz / 351nm最大20mJ＠1kHz発振DPSSレーザー「DMシリーズ」
・優れたビーム品質(TEM00)と高パルスエネルギー発振DPSSレーザー「DXシリーズ」
高パルスエネルギー発振レーザー
・1パルス最大1J発振 DPSSレーザー「Plasmaシリーズ」
・1パルス最大10J発振可能 フラッシュランプ励起レーザー「LPY10Jシリーズ」
レーザー詳細仕様のご説明、お客様のご用途/ニーズにあわせてレーザーシステムや加工装置のご提案を致しますので、
お電話(03-3351-0717)もしくはお問合せフォームよりお気軽にお問合せください。
条件に一致する製品は9件あります
マルチモード高パルスエネルギーレーザー
DMシリーズはPhotonics Industries International社レーザーの中で最も高いパルスエネルギーを発振するように設計されたナノ秒DPSSレーザーシステムです。Nd:YAG、Nd:YLFを媒体とし、最大100ｍJ＠527nm(1kHz)モデルや最大50kHz繰返し周波数モデルまでラインナップしています。
ナノ秒高出力レーザー
DXレーザーシステムは共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン（特許取得済）を採用している、最大80W＠532nm、最大50W＠355nmを発振する高出力・コンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
ナノ秒完全空冷小型レーザー
DCシリーズは完全空冷、かつ共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン（特許取得済）を採用しているコンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
ナノ秒完全空冷小型レーザー
DX-ACシリーズは完全空冷、かつ共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン（特許取得済）を採用しているコンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
最大1J、高パルス安定性(0.2%rms)、DPSSレーザーシステム
LD励起方式を採用した、高パルスエネルギーレーザーシステムです。 最大パルスエネルギー 1J、最大繰返し200Hzで、パルス間安定性も0.2％RMSを実現するレーザーです。
カテゴリーレーザー微細加工装置
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