最大160W 産業用ピコ秒レーザー
RXレーザーシステムは、特許取得済みのpulse selection技術により世界中で数百台の納入実績がある産業用ピコ秒レーザーRGシリーズから誕生した新型コンパクト・ピコ秒レーザーシステム（短パルスレーザーシステム）です。加工含め様々な産業用途にお使い頂いております。
APPLICATION
レーザーマーキング
レーザーを照射し、物体の表面にマーキングを行います。微細かつ消えないマーキングが可能です。
紫外線アブレーションや多くの材料に彫刻することが可能で、かつ、サファイアガラス/樹脂/金属などへのスクライブ/穴あけ加工、 ITO等の薄膜除去などの微細加工にもお使いいただけます。また金属への耐腐食性の高い印字を行うことが可能です。
レイチャーシステムズでは、様々な材質へのマーキング実績がございます。
高速UVレーザーマーカー
より広範囲に、高速に印字が可能です。
導入後にお客様がレーザーシステムの載せ替えやFΘレンズ等の光学レンズ（集光スポット径や印字エリア）の変更を行うことが出来ます。その為、初めは印字用として低出力レーザーを搭載、その後加工用や高出力レーザーへの載せ替えなどが可能です。
レーザーシステムは355nm（UV）波長モデルは最大50Wモデルまでラインナップ、また532nm等他の波長レーザーにも対応可能です。
ぜひ詳細はコチラをご覧ください。
HDPE（高密度ポリエチレン）へのマーキング
プラスチックへのマーキング
その他加工事例もご覧ください。
レーザー詳細仕様のご説明、お客様のご用途/ニーズにあわせてレーザーシステムや加工装置のご提案を致しますので、お電話(03-3351-0717)もしくはお問合せフォームよりお気軽にお問合せください。
条件に一致する製品は8件あります
最大4mJ 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー
RGLXレーザーシステムは、ピコ秒でありながら1064nmモデルは最大4ｍJ＠1kHz、532nmモデルは最大2.5mJ＠1kHzを可能とする高パルスエネルギーピコ秒レーザーシステムです。
ナノ秒完全空冷小型レーザー
DCシリーズは完全空冷、かつ共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン（特許取得済）を採用しているコンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
ナノ秒完全空冷小型レーザー
DX-ACシリーズは完全空冷、かつ共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン（特許取得済）を採用しているコンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
ナノ秒高出力レーザー
DXレーザーシステムは共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン（特許取得済）を採用している、最大80W＠532nm、最大50W＠355nmを発振する高出力・コンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
コンパクト空冷 LD励起固体ナノ秒レーザーシステム
DPシリーズは空冷、<10nsの短パルス幅、最大パルスエネルギー20mJ＠1064nmを発振するコンパクト、高パルスエネルギー・ナノ秒DPSSレーザーシステムです。1064nm、1030nm、532nm、515nm、355nm、343nm、266nm、257nm発振自動切換モデルや、繰返し周波数100Hzモデル、1kHzモデルなど様々なラインナップがあります。
カテゴリーレーザー微細加工装置
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